2013
Цель работы: исследование полупроводниковых диодов для получения ВАХ.
Приборы: Прибор комбинированный цифровой Щ4313, источник питания.
Прямое включение:
Германиевый диод:
№ | I(mA) | U(B) |
0.037 | ||
0.24 | 0.155 | |
0.6 | 0.180 | |
0.86 | 0.190 | |
1.29 | 0.202 | |
1.37 | 0.204 | |
1.64 | 0.209 | |
2.33 | 0.220 | |
2.57 | 0.224 |
Обратное включение:
Германиевый диод:
№ | I(mA) | U(B) |
2.28 | 3.3 | |
2.37 | 3.63 | |
2.39 | 4.03 | |
2.47 | 4.8 | |
2.55 | 5.21 | |
2.64 | 5.71 | |
2.72 | 6.48 | |
2.89 | 7.45 | |
3.08 | 9.40 | |
3.33 | 11.35 | |
3.35 | 12.28 | |
3.52 | 13.03 | |
3.68 | 14.80 |
Кремневый диод:
№ | I(mA) | U(B) |
0.019 | ||
0.633 | 0.587 | |
0.6 | 0.612 | |
0.77 | 0.622 | |
1.03 | 0.632 | |
1.37 | 0.645 | |
1.7 | 0.654 | |
1.98 | 0.663 | |
2.33 | 0.667 | |
3.02 | 0.680 | |
36.28 | 0.683 | |
3.71 | 0.689 | |
3.97 | 0.692 |
Обратное включение:
Кремневый диод: В связи с малым напряжением кремневый диод имеет достоинства не пропускать обратный ток.
Вывод: Исследовали полупроводниковые диоды и получили для них ВАХ.
Контрольные вопросы:
1) Собственной проводимостью полупроводников называется проводимость, обусловленная движением под действием электрического поля одинакового числа свободных электронов и дырок, образовавшихся вследствие перехода электронов полупроводника из валентной зоны в зону проводимости. Электропроводность, обусловленную движением свободных электронов, называют электронной, а электропроводность, обусловленную движением дырок, - дырчатой.
2) Область объёмного заряда образуется вследствие гораздо меньшей концентрации свободных зарядов в полупроводнике по сравнению с концентрацией их в металле.
3) Диаграммы p-n переходов:
4) Возникновение потенциального барьера связано с такими физическими явлениями, как туннельный эффект, лавинные и пролетные явления в полупроводниковых структурах, высокочастотные неустойчивости в твердотельной плазме. Устройства с такими p–n -переходами используются в качестве усилителей и генераторов сверхвысоких частот.
Между образовавшимися объемными зарядами возникают так называемая контактная разность потенциалов: uK= цn - цp и электрическое поле, направленное от n - области к p - области. Как видно, в p-n - переходе возникает потенциальный барьер, который препятствует диффузии основных носителей зарядов.
У германиевых переходов jТ = (0,3 – 0,4) В, у кремниевых jТ = (0,7 – 0,8) В.
5) Если подключить к p-n-переходу источник внешнего напряжения таким образом, чтобы плюс был приложен к области полупроводника n-типа, а минус – к области полупроводника p-типа (такое включение называют обратным, рис. 1.4), то обедненный слой расширяется, так как под воздействием внешнего напряжения электроны и дырки смещаются от p-n-перехода в разные стороны. При этом высота потенциального барьера также возрастает и становится равной jк+ u (рис. 1.5), поскольку напряжение внешнего смещения включено согласно контактной разности потенциалов.
Рис 1.4 Обратное смещение перехода |
Рис 1.5 Изменение потенциального барьера |
Так как напряжение внешнего источника прикладывается встречно контактной разности потенциалов, то потенциальный барьер снижается на величину u (см. рис. 1.7), и создаются условия для инжекции основных носителей – дырок из полупроводника p-типа в полупроводник n-типа, а электронов – в противоположном направлении. При этом через p-n-переход протекает большой прямой ток, обусловленный основными носителями заряда. Дальнейшее снижение потенциального барьера ведет к росту прямого тока при неизменном значении обратного дрейфового тока.
7) Прямая ветвь вольт - амперной характеристики: Величина прямого тока в диоде должна зависеть от напряжения экспоненциально. Однако реальные характеристики отличаются от экспоненты по ряду причин. Ввиду резкой зависимости прямого тока от напряжения ВАХ обычно описывают беря ток I в качестве аргумента:
Отсюда видно, что напряжение U, соответствующее некоторому заданному значению прямого тока I тем больше, чем меньше обратный ток .У кремниевых диодов, ток которых значительно меньше, чем у германиевых, начальный участок прямой ветви очень пологий.
8) Диффузионная длина в полупроводнике - расстояние, на котором плоский диффузионный поток неравновесных носителей заряда (в отсутствие электрического поля) уменьшается в е раз. Д. д. L имеет смысл среднее расстояния, на которое смещаются носители заряда в полупроводнике вследствие диффузии за время их жизни: , где D - коэффициент диффузии носителей заряда в полупроводниках.
Возникшие в результате генерации электроны и дырки, находясь в состоянии хаотического теплового движения, спустя некоторое время, среднее значение которого называется временем жизниносителей заряда, встречаются друг с другом, в результате чего происходит восстановление ковалентных связей.
9) Подвижность носителей заряда - коэффициент пропорциональности между дрейфовой скоростьюносителей и приложенным внешним электрическим полем. Определяет способность электронов и дырок в металлах и полупроводниках реагировать на внешнее воздействие.
Рекомбинация - процесс, обратный ионизации. Состоит в захвате ионом свободного электрона. Рекомбинация приводит к уменьшению заряда иона или к превращению иона в нейтральный атом или молекулу. Возможна также рекомбинация электрона и нейтрального атома (молекулы), приводящая к образованию отрицательного иона, и в более редких случаях - рекомбинация отрицательного иона с образованием двух- или трехкратно заряженного отрицательного иона. Вместо электрона в некоторых случаях могут выступать другие элементарные частицы, например мезоны, создавая мезоатомы или мезомолекулы. На ранних этапах развития вселенной происходила реакция рекомбинации водорода.
Тепловое действие тока - при прохождении тока, проводники нагреваются.
10) В реальных диодах обратный ток диода складывается из теплового тока, тока термогенерации и тока утечки.
11) Под пробоем p-n- перехода понимают значительное уменьшение обратного сопротивления, сопровождающееся возрастанием обратного тока при увеличении приложенного напряжения. Различают три вида пробоя: туннельный, лавинный и тепловой.
Туннельный пробой возникает при малой ширине p-n-перехода (например, при низкоомной базе), когда при большом обратном напряжении электроны проникают за барьер без преодоления самого барьера. В результате туннельного пробоя ток через переход резко возрастает и обратная ветвь ВАХ идет перпендикулярно оси напряжений вниз.
Лавинный пробой возникает в том случае, если при движении до очередного соударения с нейтральным атомом кристалла электрон или дырка приобретают энергию, достаточную для ионизации этого атома, при этом рождаются новые пары электрон-дырка, происходит лавинообразное размножение носителей зарядов; здесь основную роль играют неосновные носители, они приобретают большую скорость. Лавинный пробой имеет место в переходах с большими удельными сопротивлениями базы («высокоомная база»), т.е. в p-n-переходе с широким переходом.
Тепловой пробой характеризуется сильным увеличением тока в области p-n-перехода в результате недостаточного теплоотвода.
Если туннельный и лавинный пробои, называемые электрическими, обратимы, то после теплового пробоя свойства перехода меняются вплоть до разрушения перехода.
|
© helpiks.su При использовании или копировании материалов прямая ссылка на сайт обязательна.
|
|