Нанопечатная литография.

Метод нанопечатной литографии (НПЛ) - нелучевой метод формирования наноструктур с высокой скоростью.

Нанопечатная литография предназначенна для переноса изображения наноструктуры или электронной схемы на подложку с покрытием и включающая деформацию покрытия штампом с последующим травлением деформированного покрытия и формированием на подложке наноструктуры или элементов электронной схемы.

Основным достоинством является то, что данный метод не требует использования сложного облучающего оборудования.

В метоже нанопечатной литографии формирование топологии производится путем физической деформации резиста пресс-формой (шаблоном), несущей изображение наноструктуры, а не за счёт модификации химической структуры резиста облучением, как в обычной литографии. Трафарет с изображением наноструктуры вдавливается в тонкий слой резиста, покрывающего подложку, создавая контрастное изображение на слое. Резистом является термопластичный полимер, который затем, используя анизотропное реактивное ионное травление, удаляют на участках малой толщины. Трафаретом может быть штамп, изготовленный из металла, диэлектрика или полупроводника методом электронно-лучевой литографии.

Это принципиальное различие освобождает НПЛ от многих проблем, связанных со стандартными методами литографии (диффузионный предел, рассеяние и химические процессы).

Данный метод позволяет получать структуры размером менее 10 нм на больших областях подложки с высокой точностью и воспроизводимостью.